研究業績（2015年）

オリジナル論文

• Susumu Takabayashi, Meng Yang, Takanori Eto, Hiroyuki Hayashi, Shuichi Ogawa, Taiichi Otsuji, Yuji Takakuwa
  Controlled oxygen-doped diamond-like carbon film synthesized by photoemission-assisted plasma
  Diamond and Related Materials, (53), 11-17(2015.1)
  
• Yoshimi Horio, Yoshihide Watanabe, Yuji Takakuwa, Shuichi Ogawa
  RHEED Patterns Calculated for Pt Nano Clusters on TiO2(110) Substrate
  e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, (13), 125-128(2015.3)
  
• T. Takami, Y. Ojiro, S. Ogawa, Y. Takakuwa, Y. Ogawa, M. Saito, H. Matsuoka, S. Tate
  Coating the Outer Surface of Glass Nanopipette with Chlorobenzene-Terminated Polysiloxane
  e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, 13, 79-84(2015.3)
• Yoshimi Horio, Yoshihide Watanabe, Yuji Takakuwa, Schuichi Ogawa
  RHEED Patterns Calculated for Pt Nano Clusters on TiO2(110) Substrate
  e-Journal of Surface Science and Nanotechnology,13,125-128(2015.3)
• Shuichi Ogawa, Jiayi Tang, Yuji Takakuwa
  Experimental estimation of oxidation-induced Si atoms emission on Si(001)
  surfaces AIP Advances,5(8),087146/1-087146/7(2015.8)
  
  

  国内会議抄録

  
  
  
  

  研究報告書など

  
  
  
  

  国際会議プロシーディングス

  
  
  
  

  学会発表

  
  

  国内学会

  
  招待
  • 小川修一
    「『その場』観察光電子分光によるグラフェン・オン・ダイヤモンド構造作製プロセスの解明」
    多元物質科学研究所若手交流講演会, 日本, 仙台, (2015.1.23)
  
  
  一般
  • 尾白佳大, 小川修一, 室隆桂之, 高桑雄二
    『CVD多層グラフェンのXAFSとXPSによる解析：結晶配向性と電気抵抗率の相関』
    平成26年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, 日本, 札幌市, (2015.3.9-2015.3.10)
    
  • 大野敦子, 川田麻由梨, 小川修一, 高桑雄二
    『ｐ型ダイヤモンド表面での光電子制御プラズマ放電特性の解明』
    平成26年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, 日本, 札幌市, (2015.3.9-2015.3.10)
    
  • 小谷川祐貴, 阿加賽見, 小川修一, 高桑雄二
    『光電子制御ArプラズマによるAu 表面平坦化処理の効果』
    平成26年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, 日本, 札幌市, (2015.3.9-2015.3.10)
    
  • 杉本倫太朗, 林広幸, 小川修一, 竹野貴法, 足立幸志, 高桑雄二
    『光電子制御プラズマCVD合成DLC膜の機械特性と化学状態の関係性』
    平成26年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, 日本, 札幌市, (2015.3.9-2015.3.10)
    
  • 小川 修一, 唐 佳芸, 吉越 章隆, 石塚 眞治, 寺岡 有殿, 高桑 雄二
    『SiO2/Si(001)界面酸化プロセスにおける熱歪みの寄与』
    2015年 第62回応用物理学会春季学術講演会, 日本, 平塚市, (2015.3.11-2015.3.14)
    
  • 高見 知秀, 西本 究, 後藤 忠彦, 小川 修一, 高桑 雄二
    『ガラスナノピペットにおける希ガスの真空コンダクタンス』
    2015年 第62回応用物理学会春季学術講演会, 日本, 平塚市, (2015.3.11-2015.3.14)
    
  • 鷹林 将, 楊 猛, 高桑 雄二, 高萩 隆行
    『ラマン解析より求めたダイヤモンドライクカーボンの形成要素』
    2015年 第62回応用物理学会春季学術講演会, 日本, 平塚市, (2015.3.11-2015.3.14)
    
  • 堀尾吉已, 田代将人, 高桑雄二, 小川修一
    『EF-MEEDによるGeハットクラスタの観察』
    日本物理学会第70回年次大会（2015年）, 日本, 東京, (2015.3.21-2015.3.24)
    
  • 高見知秀, 尾白佳大, 西本究, 小川佳英, 小山真人, 小川修一, 高桑雄二, 斉藤美佳子, 松岡英明, 楯真一
    『細胞への自動インジェクション装置実現のための要素技術開発 』
    日本物理学会第70回年次大会（2015年）, 日本, 東京, (2015.3.21-2015.3.24)
  • 菅原武志, 高見知秀, 高桑雄二
    『ナノピペットにおける希ガスの真空コンダクタンスの理論計算』
    第76回応用物理学会秋季学術講演会, 日本, 名古屋市, (2015.9.13-2015.9.16)
  • 堀尾吉已, 高桑雄二, 小川修一
    『中速電子回折と表面波共鳴との相関性』
    第76回応用物理学会秋季学術講演会, 日本, 名古屋市, (2015.9.13-2015.9.16)
  • 堀尾吉已, 高桑雄二, 小川修一, 安部功二
    『RHEED励起によるZnO(0001)表面からのBRAESプロファイル』
    日本物理学会2015年秋季大会, 日本, 吹田市, (2015.9.16-2015.9.19)
  • 堀尾吉已, 高桑雄二, 小川修一, 安部功二
    『RHEEDによるZnO(0001)表面構造解析』
    第35回表面科学学術講演会, 日本, つくば市, (2015.12.1-2015.12.3)
  • 多賀 稜, 唐 佳芸, Yu Zhou, 小川 修一, 高桑 雄二
    『p型とn型Si(001)表面室温酸化におけるO2解離吸着過程の比較』
    第35回表面科学学術講演会, 日本, つくば市, (2015.12.1-2015.12.3)
  • 
    
    
    

    国際会議

    
    招待
    
    • 
      
    一般
    
    • M. Kawata, A. Ohno, S. Ogawa, Y. Takakuwa
      Comparison of photoemission-assisted plasma discharge characteristics between n-type and p-type diamond surfaces
      13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, 日本, 京都 ,(2015.7.8-2015.7.10)
    • Y. Kotanigawa, S. Ajia, S. Ogawa, Y. Takakuwa
      Estimation of critical ion energy for surface planarization process using photoemission-assisted plasma ion source
      13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, 日本, 京都, (2015.7.8-2015.7.10)
    • S. Ajia, Y. Kotanikawa, Y. Ohtomo, S. Ogawa, Y. Takakuwa
      Ion incident energy dependence for Cu surface smoothing using Ar+ ions generated by photoemission-assisted plasma
      13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, 日本, 京都, (2015.7.8-2015.7.10)
      
    • Y. Ojiro, M. Inukai, S. Ogawa, M. Sato, E. Ikenaga, T. Muro, M. Nihei, Y. Takakuwa, N. Yokoyama
      HAXPES study of the CVD growth kinetics of networked nanographite on SiO2(90 nm)/Si: CH4/Ar and CH4/H2 gases
      HAXPES2015, 台湾, 新竹, (2015.3.29-2015.4.3)
      
    • S. Ogawa, Y. Ojiro, M. Inukai, E. Ikenaga, T. Muro, M. Sato, M. Nihei, Y. Takakuwa
      Thickness and chemical bonding states of thick nanographitite on SiO2(90 nm)/Si evaluated by HAXPES
      HAXPES2015, 台湾, 新竹, (2015.3.29-2015.4.3)
      
    • A. Ohno, M. Kawata, S. Ogawa, Y. Takakuwa
      Discharge characteristics and growth of diamond using high-pressure glow discharge mediated photoemission-assisted plasma
      9th International Conference on New Diamond and NanoCarbons 2015, 日本, 静岡市, (2015.5.24-2015.5.28)
      
    • S. Ogawa, T. Yamada, S. Ishidzuka, A. Yoshigoe, Y. Teraoka, Y. Takakuwa
      Electronic and Chemical States Changes During Formation of Graphene on Diamond C(111) Substrates Measured by XPS
      9th International Conference on New Diamond and NanoCarbons 2015, 日本, 静岡市, (2015.5.24-2015.5.28)
      
    • R. Sugimoto, H. Hayashi, S. Ogawa, T. Takeno, K. Adachi, Y. Takakuwa
      Mechanical Property and Chemical configuration of diamond-like carbon films grown by photoemission-assisted plasma enhanced CVD
      9th International Conference on New Diamond and NanoCarbons 2015, 日本, 静岡市, (2015.5.24-2015.5.28)
      
    • Y.Ojiro, S.Ogawa, T.Muro, Y. Takakuwa
      Oxygen Doping into Networked Nanographite by using Photoemission Assisted Plasma Enhanced CVD with CO2 doping Gas
      9th International Conference on New Diamond and NanoCarbons 2015, 日本, 静岡市, (2015.5.24-2015.5.28)
    • Mayuri Kawata, Atsuko Ohno, Shuichi Ogawa, Yuji Takakuwa
      Comparison of Photoemission-assisted plasma discharge characteristics between n-type and p-type diamond surfaces
      Proceedings of the thirteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, 202-204, Japan, Kyoto, The Chair of ISSP 2015 Committee(2015.7.8-2015.7.10)
      
    • Saijian Ajia, Yuki Kotanigawa, Yudai Ohtomo, Shuichi Ogawa, Yuji Takakuwa
      Ion incident energy dependence for Cu surface smoothing using Ar+ ions generated by photoemission-assisted plasma
      Proceedings of the thirteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, 319-322, Kyoto, (2015.7.8-2015.7.10)
      
    • Yuki Kotanigawa, Ajia Saijan, Shuichi Ogawa, Yuji Takakuwa
      Estimate of Critical Ion Energy for Surface Planarization Process Using Photoemission-Assisted Plasma Ion Source
      Proceedings of the thirteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, 75-78, Japan,Kyoto, The Chair of ISSP 2015 Committee(2015.7.8-2015.7.10)
      
    • Y. Kotanigawa, X. Ajiasaijian, S. Ogawa, Y. Takakuwa
      Interaction of Au(200 nm)/Si surface with photoemission-assisted plasma ion source: the surface flattening effect of He+, Ar+, Kr+, and Xe+ ions
      European Conference on Surface Science, Spain, Barcelona, (2015.8.30-2015.9.4)
      
    • J. Tang, S. Ogawa, A. Yoshigoe, Y. Teraoka, Y. Takakuwa
      Strain-induced oxide decomposition at SiO2/Si(001) and SiO2/Si(111) interfaces studied by X-ray photoelectron spectroscopy and scanning tunnelling microscopy
      European Conference on Surface Science, Spain,Barcelona, (2015.8.30-2015.9.4)
      
    • X. Ajiasaijian, Y. Kotanigawa, Y. Ohtomo, S. Ogawa, Y. Takakuwa
      Ultraviolet photoelectron spectroscopy study of Cu(200 nm)/Si substrates treated by Ar ion sputtering and vacuum annealing
      European Conference on Surface Science, Spain, Barcelona, (2015.8.30-2015.9.4)
      
    • L. Zhang, T. Takeno , S.Ogawa , K. Adachi, K. Kurihara, Y. Takakuwa
      Development of high pressure X-ray photoelectron spectroscopy with Cr and Al Dual X-ray sources
      16th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis, Spain, Granada, (2015.9.28-2015.10.1)
      
    • Y. Horio, Y. Takakuwa, S. Ogawa, K. Abe
      Auger Intensity Anomalies from ZnO(0001) Surface Excited by RHEED Incident Beam
      10th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’15, 日本, 松江, (2015.10.25-2015.10.30)
      
    • J. Tang, S. Ogawa, A. Yoshigoe, S. Ishidzuka, Y. Takakuwa
      Strain-induced Reaction Kinetics of O2 Molecule at SiO2/Si Interfaces studied by Real-time X-ray Photoelectron Spectroscopy
      10th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’15, 日本, 松江, (2015.10.25-2015.10.30)
      
    • J. Tang, S. Ogawa, A. Yoshigoe, S. Ishidzuka, Y. Takakuwa
      Rapid Temperature Oxidation at SiO2/Si(001) Interface Studied by Real-Time X-Ray Photoelectron Spectroscopy: Rapid Cooling Versus Rapid Heating
      2015 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES – SCIENCE AND TECHNOLOGY, 日本, 東京, (2015.11.2-2015.11.4)
      
    • 
      
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      学術関係受賞

    • 尾白佳大
      日本表面科学会東北・北海道支部学術講演会学生講演賞
      日本表面科学会東北・北海道支部, (2015.3.10)
      
    • 阿加賽見
      ISSP2015　Best Poster Award
      ISSP 2015, (2015.7.8)
      
    • 唐 佳芸
      IWDTF2015 Young Paper Award
      IWDTF2015, (2015.11.2)
      
    • 杉本倫太郎
      旗野奨学基金 多元物質科学研究奨励賞
      東北大学多元物質科学研究所, (2015.12.22)